12 November 2024 -
15 November 2024
Hintergrund
Die Endoberfläche der Leiterplatte schützt das darunterliegende Kupfer vor Oxidation. Zudem stellt sie eine ausreichend stoffschlüssige Verbindung zu Bauteilen und Logikchips über Löt-, Kleb- und Bondprozesse sicher. Am häufigsten genutzt werden chemische Aufmetallisierungsverfahren, wie etwa chem. Sn, ENIG oder ENEPIG / ENEPAG. Diese zeichnen sich durch einen planaren Schichtaufbau mit geringerer Schichtdicke aus. Galvanische Prozesse, wie etwa galv. NiAu, finden häufig Anwendung, wenn ein Plus an Robustheit (z.B. Schleifer- und Steckerkontakte) gefordert werden oder erhöhte Anforderungen an das Korrosionverhalten bestehen. Diese stromgeführten Prozesse weisen eine höhere Au-Schichtdicke auf. Die Leiterplatten sind, über notwendige Stromanbindungen der zu metallisierenden Pads, nicht frei im Design.
Oberfläche | Schichtdicken (µm) | Anwendungen: Verarbeitbarkeit/Lötbarkeit |
chem. Zinn | 0,9-1,2 | 6 Monate |
OSP | 0,1-0,3 | 6 Monate |
ENIG | Ni: 3-9 | 6 Monate |
ENEPAG (ENEPIG) | Ni: 4-8 | 6 Monate |
ENIG + galv. Au | Ni: 3-9 | 6 Monate |
galv. Nickel Gold | Ni: 3-9 | 6 Monate |
galv. Hartgold (99,7 %) | Ni: 3-9 | 6 Monate |
HAL verbleit | bedeckt – 45 µm | 6 Monate |
HAL bleifrei | bedeckt – 45 µm | 6 Monate |
chem. Silber (99,9 %) | 0,1-0,3 | 12 Monate |